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文献所属馆:
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光学光刻和极紫外光刻, (德)安迪·爱德曼(Andreas Erdmann)著 |
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ISBN:
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978-7-5478-5720-5 价格： CNY195.00 |
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语种:
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chi |
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题名:
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光学光刻和极紫外光刻 guang xue guang ke he ji zi wai guang ke / (德)安迪·爱德曼(Andreas Erdmann)著 , 高伟民，徐东波，诸波尔译 |
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出版发行:
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出版地： 上海 出版社： 上海科学技术出版社 出版日期： 2023 |
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载体形态:
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316页 图 24cm |
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附注内容:
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元基石 |
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摘要:
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本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光刻的技术奥秘。 |
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主题:
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光学 光刻系统 |
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主题:
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紫外线 光刻系统 |
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中图分类:
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TN305.7 版次： 5 |
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主要著者:
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爱德曼 ai de man 著 |
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次要著者:
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高伟民 gao wei min 译 |
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次要著者:
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徐东波 xu dong bo 译 |
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次要著者:
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诸波尔 zhu bo er 译 |
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标签:
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相关主题:
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相关资源:
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分享资源:
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限定所在馆:
限定所在馆藏地点:
限定馆藏状态:
HEA| |01264nam0 2200289 450 001| |012016018628 005| |20230806101657.1 010| |□a978-7-5478-5720-5□dCNY195.00 100| |□a20230806d2023 em y0chiy50 ea 101|1 |□achi□cger 102| |□aCN□b310000 105| |□aa z 000yy 106| |□ar 200|1 |□a光学光刻和极紫外光刻□9guang xue guang - | |ke he ji zi wai guang ke□dOpti- | |cal and EUV lithography: a mod- | |eling perspective□f(德)安迪·爱德曼(A- | |ndreas Erdmann)著□g高伟民，徐东波，诸波尔译□zeng 210| |□a上海□c上海科学技术出版社□d2023 215| |□a316页□c图□d24cm 300| |□a元基石 330| |□a本书在系统地阐述了光学光刻技术的基本内容后，还专门开辟章- | |节，介绍了最先进的极紫外光刻技术的特点和难点，揭示了极紫外光- | |刻的技术奥秘。 510|1 |□aOptical and EUV lithography:- | | a modeling perspective□zeng 606|0 |□a光学□x光刻系统□x研究 606|0 |□a紫外线□x光刻系统□x研究 690| |□aTN305.7□v5 701| 0|□c(德)□a爱德曼□9ai de man□c(Erdman- | |n, Andreas)□4著 702| 0|□a高伟民□9gao wei min□4译 702| 0|□a徐东波□9xu dong bo□4译 702| 0|□a诸波尔□9zhu bo er□4译 801| 0|□aCN□bQXLIB□c20230806