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托尼克:设计为何, (荷)格特·斯塔尔,(荷)托尼克[著]

ISBN:
978-7-5321-7089-0 价格: CNY258.00
语种:
chi
题名:
托尼克:设计为何 tuo ni ke : she ji wei he / (荷)格特·斯塔尔,(荷)托尼克[著] , 周安迪等译
出版发行:
出版地: 上海 出版社: 上海文艺出版社 出版日期: 2019
载体形态:
355页 图,照片 25cm
附注内容:
上海当代艺术博物馆
摘要:
本书内容包括:乌得勒支中央博物馆、维姆·T. 席佩斯精选、“越过边缘”展览、首尔出租车、永远属于你、Droog Design设计图书、“数字之维”展览、阿姆斯特丹市政府等。
其它题名:
设计为何
主题:
平面设计
中图分类:
J511 版次: 5
主要著者:
斯塔尔 si ta er 著
主要著者:
托尼克 tuo ni ke 著
次要著者:
周安迪 zhou an di 译
标签:
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分享资源:
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